ナノインプリント技術の基礎と応用最前線

構成数 : 1枚

はじめに
Preface
半導体産業におけるナノインプリントへの期待
1. AI/ 知能化社会をリードする半導体
1.1 超高速処理AI デバイスにより知能化
1.2 知能化と電化が進む自動車が半導体の3 つ目の柱に
2. 超高速・大容量通信を可能にする光融合型3次元ハイブリッドデバイス技術の発展
2.1 メモリへのナノインプリント実用化
2.2 高速ネットワークに求められる光融合デバイスとナノインプリント
2.3 自動車の自動運転を可能にするADAS センサーへの応用
2.4 ミリ波,ビヨンド5G 向け高速通信用アンテナ
2.5 ヘテロジニアスインテグレーションがひらく,新たな世界
おわりに
本書出版にあたって

第1部 ナノインプリント技術の基礎
第1章 ナノインプリント技術の歴史・研究～実用化のこれまで
はじめに
1. ナノインプリントの起源
1.1 インプリントとは
1.2 ナノインプリントの誕生と発展経緯
1.2.1 ナノインプリントの誕生
2. ナノインプリントの進展
3. ナノインプリントの成立要件
4. 産業応用へのあゆみ

第2章 熱・光(UV)ナノインプリント技術
第1節 熱およびダイレクトナノインプリントのメカニズムとプロセス
はじめに
1. 基本的なプロセスメカニズム
1.1 シミュレーションモデル
1.2 成形の基本メカニズム
1.2.1 プレス圧力依存性
1.2.2 アスペクト比依存性
1.2.3 初期膜厚依存性
2. 応力による欠陥要因とプロセスの最適化
2.1 高アスペクト比パターン作製における典型的欠陥
2.1.1 プロセスシーケンスと発生する応力・歪
2.1.2 プロセスシーケンスの最適化
2.1.3 高アスペクト比パターンの作製
2.2 マイクロレンズ構造の成形
2.2.1 凹型マイクロレンズのナノインプリント例
2.2.2 凸型マイクロレンズのナノインプリント例
3. 成形時間依存
3.1 実験方法
3.2 計算モデル
3.3 実験と計算結果
4. ダイレクトナノインプリント
4.1 ガラスへのダイレクトナノインプリント
4.2 Au へのダイレクトナノインプリント
4.3 有機半導体へのダイレクトナノインプリント
まとめ
第2節 光(UV)ナノインプリントのメカニズムとプロセス
1. 光(UV)ナノインプリント
2. レジストの充填プロセス
2.1 液滴滴下方式での充填
2.2 スピンコート法と凝縮性気体雰囲気中での充填
3. UV 照射プロセス
4. 光硬化プロセス
5. 光(UV)ナノインプリントの課題と解決策
5.1 気泡のトラップ
5.2 残膜厚の均一化
6. 光ナノインプリント半導体製造への応用
6.1 半導体配線工程への応用
6.2 ダブルパターニング後のチョッピングへの応用
まとめ
第3節 混合凝縮性ガス導入による低欠陥・高精度ナノインプリント技術
はじめに
1. 凝縮性ガスを導入するナノインプリント
2. 混合凝縮性ガスを導入するナノインプリント
おわりに
第3章 ナノインプリントにおける分子挙動・シミュレーション・測定法
第1節 分子動力学法によるナノインプリント成形,離型の分子挙動解析
はじめに
1. 樹脂モデルと分子サイズ
2. 分子動力学解析
3. 限界解像度と分子サイズ
4. 連続体力学との比較
5. 離型と分子挙動
おわ