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X線分析の進歩 26 X線工業分析 30

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構成数 : 1

I. 蛍光X線分析:報文
1. 蛍光X線分析ガラスビード法による定量分析の高精度化(ガラスビード法の高精度化と真度の向上I)
(山本恭之・小笠原典子・柚原由太郎・横山雄一)

2. 蛍光X線分析ガラスビード法の標準試料作成・自動評価システム(ガラスビード法の高精度化と真度の向上II)
(山本恭之・小笠原典子・中田昭雄・庄司静子)

3. 低希釈率ガラスビード法による岩石の主成分と微量成分分析
(山田康治郎・河野久征・村田 守)

4. 人工累積膜による超軟X線分光の問題点
(小林 寛・戸田勝久・河野久征)

5. 斜入射条件下における取り出し角依存―蛍光X線分析法による真空蒸着薄膜および溶液滴下―乾燥薄膜の分析
(辻 幸一・水戸瀬賢悟・広川吉之助)

6. 高分解能2結晶型蛍光X線装置による酸化物薄膜の状態分析
(升田裕久・太田能生・森永健次)

7. 蛍光X線分析による鋼板表面酸素の定量分析
(妻鹿哲也)

8. ネオジムとアルミニウムをドープしたシリカゲル中のネオジムの局所構造:XAFSによる研究
(横山拓史・藤山 毅・吉田暢生・脇田久伸)

9. オンラインSi付着量計の開発[技術報告]
(黒住重利・松浦直樹)

II. X線回折:報文
10. Ni基超耐熱合金の高温下でのγ/γ'格子定数ミスフィットの精密測定
(横川忠晴・大野勝美・原田広史・山縣敏博)

11. イメージングプレート迅速X線回折法による高温高圧水の構造解析
(山中弘次・大園洋史・山口敏男・脇田久伸)

12. 高角度2結晶X線回折法による単結晶評価
(副島雄児・山田浩志・呂 志力・岡崎 篤)

13. 表面状態と視斜角入射X線回折図形
(小坂雅夫)

14. 構造予測技術を用いた粉末回折構造解析―オルトニトロ安息香酸の結晶構造―
(倉橋正保)

15. 粉末回折法による1,2–シクロヘキサンジオンジオキシム-ニッケル(II)錯体の
結晶構造解析
(エルンスト ホルン・倉橋正保)

16. X線回折定性分析作業における知的支援[技術報告]
(新井 浩・魚田 篤・石田秀信)

III. EXAFS
17. XAFSによる亜鉛–ホルマザン錯体の構造解析
(本田一匡・小島勇夫・惠山智央・藤本敏幸・内海 昭)

18. 地球科学試料中の硫黄のXAFS測定と2次元状態分析への応用
(寺田靖子・河嶌拓治・尾形 潔・中野朝雄・中井 泉)

19. X線励起電流検出によるフライアッシュ中硫黄のXAFS測定
(鄭 松岩・早川慎二郎・河合 潤・古谷圭一・合志陽一)

IV. X線光電子光分析:報文
20. ごみ焼却炉排ガス処理用バグフィルタ材のX線光電子分光分析
(藤田一紀・福田祐治)

21. 高分子化合物C1s光電子スペクトル形状の解析
(飯島善時・佐藤哲也・平岡賢三・一戸裕司・二瓶好正)

22. 擬四面体構造を有する銅(II)シッフ塩基錯体のX線光電子スペクトル
(池田重良・藤原 学・杖村由佳・松下隆之)

23. X線照射による鉄(III)錯体の固相還元反応
(藤原 学・松下隆之・池田重良)

V. EPMA
24. Cu-In-Se膜のEPMAによる定量分析
(刈谷哲也・白方 祥・磯村滋宏)

VI. その他
25. ドーパントによるCuInSe2光電子スペクトル変化のクラスター計算を用いた検討
(古曵重美・福島 整・坂井全弘・瀬恒謙太)<...

  1. 1.[書籍]

本書は昭和39年(1964年)に『X線工業分析』として発刊され、第5集から『X線分析の進歩』として毎年刊行されているものである。内容は、解説と報文、その年度におけるX線分析関係の論文・行事の紹介、機器についての資料集など。わが国における業界の年鑑といえるものである。

作品の情報

フォーマット 書籍
発売日 1995年01月01日
国内/輸入 国内
出版社アグネ技術センター
構成数 1
パッケージ仕様 -
SKU 9784900041370
ページ数 298
判型 B5

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