X線分析の進歩 25 X線工業分析 29

構成数 : 1

I. X線分光分析
1. イメージング・プレート発光X線分光器による鉄化合物のK X線測定 [ノート]
(河合 潤・前田邦子)

2. 鉄,コバルト化合物におけるK X線のスペクトル変化 [報文]
(玉木洋一)

3. アンジュレータ光を用いたホウ素化合物の選択励起B Kα発光スペクトル [ノート]
(村松康司・尾嶋正治・河合 潤・加藤博雄)

4. X線分光法による微量成分分析の妨害線:放射的オージェサテライト [報文]
(前田邦子・河合 潤)

II. X線回折
5. デバイ写真における結晶粒度と格子面間隔測定精度の関係 [報文]
(藤井信之・小崎 茂)

6. イメージングプレート検出器を用いた迅速液体・アモルファスX線回折装置の製作と性能評価 [報文]
(伊原幹人・山口敏男・脇田久伸・松本知之)

7. X線光学系のXRDパターンへの依存性―集中法と平行法との比較― [報文]
(横川忠晴・大野勝美)

8. 大気環境汚染物質の炭素鋼板腐食に及ぼす影響:X線による評価 [技術報告]
(田村久恵・桑野三郎・久米一成・宇井倬二)

9. 粉末回折法による8-アミノカプリル酸の構造解析
(エルンスト ホルン・倉橋正保)

10. パーマロイ合金表面自然酸化層の膜厚測定と構造解析 [報文]
(山本恭之・千原 宏・横山雄一・内田信也)

11. ゼオライトAのカチオンサイトの熱処理法依存性 [報文]
(加藤正直・守屋英朗・大串達夫)

III. EXAFS
12. アモルファス窒化ケイ素化合物のXAFS測定 [報文]
(梅咲則正・上條長生・田中 功・新原晧一・八田厚子・谷口一雄)

13. Cu K EXAFS, O K放射スペクトルによるCu2Oの酸化状態解析 [報文]
(元山宗之・上月秀徳・石原マリ)

14. XAFSによる炭化ケイ素・窒化ケイ素薄膜の構造解析 [報文]
(今村元泰・島田広道・松林信行・葭村雄二・佐藤利夫・西嶋昭生)

15. 放射光を用いたオージェ電子収量法によるXAFS測定―状態別分析および元素選択性の応用― [報文]
(松林信行・島田広道・今村元泰・葭村雄二・佐藤利夫・西嶋昭生)

16. in situ電気化学セルを用いた蛍光XAFS法とその応用 [報文]
(山口敏男・光永俊之・吉田暢生・脇田久伸・藤原 学・松下隆之・池田重良・野村昌治)

IV. 蛍光X線分析
17. 蛍光X線分析法による半導体薄膜の膜厚・組成分析 [報文]
(河野久征・小林 寛)

18. 蛍光X線膜厚計へのFP法の適用 [報文]
(田村浩一・佐藤正雄・一宮 豊・高橋正則)

19. 蛍光X線法によるIV族炭化物,窒化物および硼化物中の含有不純物の定量 [報文]
(金子啓二・平林正之・熊代幸伸・伊原英雄)

V. 全反射蛍光X線分析
20. 全反射蛍光X線分析用高感度X線分光器 [報文]
(宇高 忠・迫 幸雄・河野 浩・庄司 孝・清水和明・宮崎邦浩・嶋崎綾子)

21. 単色X線励起全反射蛍光X線分析における見かけ上の不純物ピークと発生原因 [報文]
(薬師寺健次・大川真司・吉永 敦・原田仁平)

22. 微小角入射微細X線による多層薄膜の分析 [技術報告]
(武田叡彦・乗松哲夫・吉田敏明)

23. クリーンルーム内環境評価への全反射蛍光X線分析法の応用 [ノート]
(大杉哲也・京藤倫久)

24. 全反射蛍光X線分析による酸化膜中および界面の重金属評価 [報文]
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