X線分析の進歩 23 X線工業分析 27

構成数 : 1

I. 放射光:総説
1.フォトン・ファクトリー―放射光の特徴とその利用―
(岩崎 博)

II. X線放射スペクトル:報文
2.DV-Xα法によるX線分光の理論的研究
(足立裕彦・中松博英・向山 毅)

3.ホウ素化合物のBKX線放射スペクトル
(上月秀徳・元山宗之)

4.電子線励起によるKβ/Kα強度比の化学的効果
(玉木洋一)

III. EXAFSその他:報文
5.銅K殻XAENSによる酸化物超伝導体の電子構造の研究
(小杉信博)

6.実験室における蛍光検出EXAFS測定法の開発
(田路和幸・宇田川康夫)

7.X線光音響イメージング法による差像解析
(河野慎一・升島 努・豊田太郎・塩飽秀啓・安藤正海・雨宮慶幸・樋上照男・横山 友・
今井日出夫・玉井 元・角山政之・平賀忠久・和田幾江・池田佳代)

IV. X線回折:報文
8.カリウム型ゼオライトLの結晶構造のカリウム含有量依存性
(平野正義・加藤正直・浅田栄一・堤 和男・白石敦則)

9.X線回折法による表面粗さ測定
(小坂雅夫)

10.冷却型CCDセンサーによる粉末X線回折図形の計測
(加藤正直・岡倉正次・服部敏明・榎本茂正・水島 廣・木村安一)

11.イメージングプレートの原理とX線分析分野への応用
(森 信文・宮原諄二)

V. 蛍光X線分析:報文
12.分子軌道法を用いたS8Kβ蛍光X線スペクトルの計算
(河合 潤・橋本健朗)

13-1.蛍光X線分析法におけるガラスビードの強熱減量(LOI),強熱増量(GOI),希釈率補正
―その1
(片岡由行・庄司静子・河野久征)

13-2.蛍光X線分析法におけるガラスビードの強熱減量(LOI),強熱増量(GOI),希釈率補正
―その2
(庄司静子・山田興毅・古澤衛一・河野久征・村田 守)

14.蛍光X線分析法による薄膜および多層薄膜の濃度・膜厚測定
(河野久征・荒木庸一・片岡由行・村田 守)

15.初期須恵器の産地測定法
(三辻利一)

16.全反射蛍光X線分析法による微量分析
(宇高 忠・迫 幸雄・小島真次郎・岩本財政・河野 浩・渥美 純)

VI. X線光電子分光:報文
17.軟X線マイクロビームの生成と微小領域の光電子分光(μ-XPS)
(二宮 健・長谷川正樹)

18.モノクロX線光電子分光における帯電制御の方法
(伊藤秋男・松尾 勝)

19.制限視野型X線光電子分光法の微小部分析への応用
(山下孝子・古主泰子・山本 公)

20.スモールスポット型X線光電子分光法におけるピーク形状の改善
(塩沢一成)

VII. 既掲載X線粉末回折図形索引

VIII. 1990年X線分析のあゆみ
1.X線分析関係文献集
2.X線分析関係国内講演会開催状況
3.X線分析研究懇談会講演会開催状況
4.X線分析研究懇談会規約
5.「X線分析の進歩」投稿手引き
6.(社)日本分析化学会X線分析研究懇談会1992年度幹事名簿
7.「X線粉末回折図形集」の収集に御協力のお願い

IX. X線分析関係機器資料
X. 既刊総目次
XI. X線分析の進歩23 索引