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技術獲得のグローバルダイナミクス 国境を越える人材移動が導く日本企業再生へのパスウェイ

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構成数 : 1

序 章 技術流出の構図:日本の技術者流出とアジア企業の台頭

第1部 技術流出の現状と課題
第1章 技術者移動が変える産業地図:グローバル視点で見る人材流動性
第2章 半導体人材のグローバル競争:技術力・戦略・非常時の変化
第3章 大学からの研究者流出:チーム移動の実態と日本の研究基盤

第2部:技術流入の現状と可能性
第4章 日本への人材流入とその波紋:産業ごとおよび出身国別の受け入れ実態
第5章 半導体産業の国際的構図:技術者流入の実態と影響
第6章 外国人技術者と日本製造業の進化:50年の協働が紡ぐイノベーションの軌跡

第3部 技術流動性を活かした日本企業再生戦略
第7章 技術流出の構造と対策:日本の競争力を再構築する戦略
第8章 技術流入と産業競争力:外国人技術者活用の未来戦略
第9章 産業ごとに異なる外国人技術者の役割:最適活用への提言

第4部 外国人材の誘致・定着のための職場環境整備と政策への提言
第10章 外国人材と日本企業の未来:共創する職場環境への道
第11章 国際比較から学ぶ:日本の高度外国人活用政策への提言

終 章 技術流動性を活かした日本企業再生への道

  1. 1.[書籍]

特に1990年代以降、日本の技術を支えてきた優秀な人材が多く海外企業へ流出し、海外企業は日本企業を追い抜いていった。この様相は 2016 年刊行の前著『技術流出の構図』でも描き出されている。

日本はこのまま競争力の低下を甘受し続けるしかないのだろうか。本書では技術者の流出と流入の両面からビッグデータを深く分析し、世界と日本の現状を明らかにするのとともに、日本企業再生への道筋を探る。半導体産業における主要 6 カ国の技術者の移動実態の分析では、人材の国際間の相互交流が活発化し、世界規模での人と技術の流動化が顕著な状況と、その相互交流の輪から蚊帳の外に置かれている日本の姿が浮き彫りとなる。その一方で、これまで十分に検証されてこなかった日本への技術流入の側面からもアプローチし、日本企業における外国人技術者のイノベーション貢献の可能性も探る。

とかく、技術流出の危機的な側面ばかりがクローズアップされ、流出防止策の議論が目立つ。本書は、技術流入すなわち、外国人技術者のもたらすイノベーションという未知の可能性の検証も行い、流出と流入の両面から、技術流動性を軸に日本企業再生への具体的な戦略を提案する。日本が再び世界に選ばれる国となり、日本企業の競争力が再生される未来への道筋(パスウェイ)が見えてくるはずだ。

作品の情報

メイン
著者： 藤原綾乃

フォーマット 書籍
発売日 2025年07月07日
国内/輸入 国内
出版社白桃書房
構成数 1
パッケージ仕様 -
SKU 9784561268000
ページ数 290
判型 A5

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